Obiettivo Fujifilm XF 56mm f/1.2 R WR
Ideale per la ritrattistica, l’obiettivo Fujifilm XF 56mm f/1.2 R WR è resistente alle intemperie ed è celebre per la sua apertura massima f/1.2 estremamente veloce, l’ottimo isolamento del soggetto e l’ottima resa cromatica, questa revisione aggiorna anche la formula ottica aggiungendo elementi asferici al gruppo di messa a fuoco, una distanza di messa a fuoco notevolmente migliorata di 48cm e un diaframma ad apertura arrotondata della lama per un bokeh migliore.
Il design ottico impiega sia elementi asferici che elementi a bassissima dispersione, che contribuiscono a ridurre una serie di aberrazioni, frange cromatiche e distorsioni per ottenere un’elevata nitidezza e chiarezza.
Viene inoltre utilizzato un rivestimento Super EBC per ridurre il flare e le immagini fantasma e migliorare il contrasto e la precisione dei colori in condizioni di luminosità e controluce. Il diaframma arrotondato a undici lamelle garantisce una messa a fuoco omogenea e gradevole dei punti fuori fuoco.
Questo obiettivo interamente in metallo utilizza nove guarnizioni in gomma per proteggerlo da polvere e umidità, pur mantenendo la piena funzionalità a temperature fino a -10°C. L’elemento frontale rivestito in fluoro, invece, è progettato per respingere l’acqua, le impronte digitali e altri segni, per mantenere alta la qualità dell’immagine anche quando il tempo è avverso.
Questo obiettivo Fuji XF 56mm è progettato per le fotocamere mirrorless Fujifilm X-Mount in formato APS-C e offre una lunghezza focale equivalente a 85 mm. Produce risultati ad alta risoluzione, privi di aberrazioni e ricchi di dettagli e colori.
Ideale per ritratti, matrimoni e qualsiasi altra situazione creativa che richieda un controllo preciso della profondità di campo, l’XF 56mm f/1.2 R WR offre incredibili prestazioni di risoluzione delle immagini fino alla distanza minima di messa a fuoco di 50 cm, rendendolo un obiettivo ideale per i ritratti, ma anche adatto ad altre situazioni.
La sua struttura ottica comprende 13 elementi in 8 gruppi, tra cui un elemento ED e due asferici. Gli otto elementi utilizzati nel gruppo di messa a fuoco utilizzano la tecnologia ad alta rifrazione degli obiettivi cinematografici FUJINON per ridurre al minimo le aberrazioni cromatiche, sferiche e comatiche.
Ciò consente di ridurre al minimo la dispersione della luce nei punti salienti, migliorando la qualità dell’immagine e i dettagli dei soggetti. L’apertura massima f/1.2, particolarmente luminosa, eccelle in condizioni di scarsa illuminazione e offre un notevole controllo sulla profondità di campo per l’utilizzo di tecniche di messa a fuoco selettiva.
Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre il flare e le immagini fantasma dell’obiettivo, per migliorare il contrasto e la fedeltà dei colori quando si lavora in condizioni di forte illuminazione.
Il diaframma arrotondato a 11 lamelle contribuisce a una piacevole qualità del fuori fuoco, a vantaggio dell’uso di tecniche di messa a fuoco selettiva e di profondità di campo ridotta.
